铝箔在盐酸中的交流电侵蚀的研究Ⅱ.50周交流电正半周侵蚀

沈行素 杨树魁

引用本文: 沈行素, 杨树魁. 铝箔在盐酸中的交流电侵蚀的研究Ⅱ.50周交流电正半周侵蚀[J]. 应用化学, 1986, 3(5): 44-48. shu
Citation:  Shen Xingsu, Yang Shukui. ON A C ETCHING OF ALUMINUM FOIL IN HYDROCHLORIC ACID Ⅱ. WITH POSITIVE HALF CYCLE RECTIFIED CURRENT[J]. Chinese Journal of Applied Chemistry, 1986, 3(5): 44-48. shu

铝箔在盐酸中的交流电侵蚀的研究Ⅱ.50周交流电正半周侵蚀

摘要: 五种不同纯度电容器用铝箔(99.97-99.999%Al)在盐酸中用50周交流电正半周进行侵蚀。由于侵蚀膜是在断电半周低pH值下形成的,属透明钝化型薄膜,不堵塞侵蚀孔,因此不出现纯交流电侵蚀时的"掉粉"、"减薄"现象。实验结果表明,侵蚀形态以及表面积扩大率与箔的纯度,也即其自钝化能力有关。用电位波形图解释了得到的现象。

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  • 收稿日期:  1985-08-01
  • 网络出版日期:  1985-12-01
通讯作者: 陈斌, bchen63@163.com
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    沈阳化工大学材料科学与工程学院 沈阳 110142

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