纳米结构TiO2/聚3-己基噻吩多孔膜电极光电性能研究

郝彦忠 蔡春立

引用本文: 郝彦忠, 蔡春立. 纳米结构TiO2/聚3-己基噻吩多孔膜电极光电性能研究[J]. 物理化学学报, 2005, 21(12): 1395-1398. doi: 10.3866/PKU.WHXB20051213 shu
Citation:  HAO Yan-Zhong, CAI Chun-Li. A Photoelectrochemical Study of the Nanostructured TiO2 /P3HT Film Electrode[J]. Acta Physico-Chimica Sinica, 2005, 21(12): 1395-1398. doi: 10.3866/PKU.WHXB20051213 shu

纳米结构TiO2/聚3-己基噻吩多孔膜电极光电性能研究

摘要: 用光电流作用谱、光电流-电势图等光电化学方法研究了ITO/聚3-己基噻吩(ITO/ P3HT)膜和纳米结构TiO2/聚3-己基噻吩(TiO2/P3HT)复合膜的光电转换性质. 结果表明, P3HT膜的禁带宽度为1.89 eV, 价带位置为-5.4 eV. 在ITO/TiO2/ P3HT复合膜电极中存在p-n异质结, 在一定条件下异质结的存在有利于光生电子-空穴对的分离. P3HT修饰ITO/TiO2电极可使光电流发生明显的红移, 从而提高了宽禁带半导体的光电转换效率.

English

  • 加载中
计量
  • PDF下载量:  2921
  • 文章访问数:  3995
  • HTML全文浏览量:  91
文章相关
  • 发布日期:  2005-12-15
  • 收稿日期:  2005-05-17
  • 网络出版日期:  2005-12-15
通讯作者: 陈斌, bchen63@163.com
  • 1. 

    沈阳化工大学材料科学与工程学院 沈阳 110142

  1. 本站搜索
  2. 百度学术搜索
  3. 万方数据库搜索
  4. CNKI搜索

/

返回文章