桥连氧化钨纳米线的可控合成及气敏性质

代甜甜 邓赞红 孟钢 童彬 刘弘禹 方晓东

引用本文: 代甜甜, 邓赞红, 孟钢, 童彬, 刘弘禹, 方晓东. 桥连氧化钨纳米线的可控合成及气敏性质[J]. 物理化学学报, 2021, 37(10): 191103. doi: 10.3866/PKU.WHXB201911036 shu
Citation:  Tiantian Dai, Zanhong Deng, Gang Meng, Bin Tong, Hongyu Liu, Xiaodong Fang. Controllable Synthesis and Gas Sensing Properties of Bridged Tungsten Oxide Nanowires[J]. Acta Physico-Chimica Sinica, 2021, 37(10): 191103. doi: 10.3866/PKU.WHXB201911036 shu

桥连氧化钨纳米线的可控合成及气敏性质

    作者简介:

    孟钢,1982年生。2010年在中国科学院安徽光学精密机械研究所获博士学位。现为中国科学院安徽光学精密机械研究所研究员。中国科学院“百人计划”入选者。主要从事低功耗半导体纳米材料与器件研究;


    方晓东,1963年生。2000年在日本大阪大学获博士学位。现为中国科学院安徽光学精密机械研究所研究员。中国科学院“百人计划”获得者。主要从事半导体光电材料与器件、紫外准分子激光器及应用技术开发研究;
    通讯作者: 孟钢, menggang@aiofm.ac.cn; 方晓东, xdfang@aiofm.ac.cn
  • 基金项目:

    国家自然科学基金 11604339

    国家自然科学基金 11674324

    中国科学院“百人计划”, 中国科学院-日本学术振兴会协议项目 GJHZ1891

    和量子光学与光量子器件国家重点实验室开放课题 KF201901

摘要: 氧化钨WO3-x (0 ≤ x < 1)具有丰富的氧化态、亚化学计量比晶相以及可逆的光致/电致变色特性,纳米线具有高比表面积和准一维单晶载流子传输通道,WO3-x纳米线结合了上述两者的优异特性,在智能玻璃、能源转换与存储器件和气体传感器等领域有广阔的应用前景。本文从WO3-x的基本性质出发,分析了液相法和气相法(气-液-固、气-固、热氧化)纳米线生长的机制及特点。其中,热氧化法无需催化剂,有望解决纳米线应用的器件化瓶颈,在 < 500 ℃下即可实现纳米线尺寸与生长位置的可控生长,实现桥连纳米线器件的高效、原位集成。随后,本文综述了桥连WO3-x纳米线器件在NOx等气体分子检测中的应用进展,梳理了桥连WO3-x纳米线器件在低功耗、高灵敏气体分子检测中的应用,以期为今后高灵敏、低功耗、高集成的氧化物桥连纳米线器件的开发提供参考。

English

    1. [1]

      Adgate, J. L.; Goldstein, B. D.; McKenzie, L. M. Environ. Sci. Technol. 2014, 48 (15), 8307. doi: 10.1021/es404621d

    2. [2]

      Tian, Y.; Yang, X.; Guo, T.; Peng, L.; Gan, H.; Xu, N.; Chen, H.; Chen, J.; Liu, F.; Deng, S. Adv. Mater. Technol. 2017, 2 (8), 1700029. doi: 10.1002/admt.201700029

    3. [3]

      Bhattacharya, M.; Paramati, S. R.; Ozturk, I.; Bhattacharya, S. Appl. Energy 2016, 162, 733. doi: 10.1016/j.apenergy.2015.10.104

    4. [4]

      Comini, E.; Faglia, G.; Sberveglieri, G.; Pan, Z.; Wang, Z. L. Appl. Phys. Lett. 2002, 81 (10), 1869. doi: 10.1063/1.1504867

    5. [5]

      Ma, S.; Hu, M.; Zeng, P.; Li, M.; Yan, W.; Qin, Y. Sens. Actuators B 2014, 192, 341. doi: 10.1016/j.snb.2013.10.121

    6. [6]

      Qin, Y.; Li, X.; Wang, F.; Hu, M. J. Alloys Compd. 2011, 509 (33), 8401. doi: 10.1016/j.jallcom.2011.05.100

    7. [7]

      Zheng, H.; Ou, J. Z.; Strano, M. S.; Kaner, R. B.; Mitchell, A.; Kalantar-zadeh, K. Adv. Funct. Mater. 2011, 21 (12), 2175. doi: 10.1002/adfm.201002477

    8. [8]

      Dey, A. Mater. Sci. Eng. B 2018, 229, 206. doi: 10.1016/j.mseb.2017.12.036

    9. [9]

      Shen, Y.; Yamazaki, T.; Liu, Z.; Meng, D.; Kikuta, T.; Nakatani, N. Thin Solid Films 2009, 517 (6), 2069. doi: 10.1016/j.tsf.2008.10.021

    10. [10]

      Kuang, Q.; Lao, C.; Wang, Z. L.; Xie, Z.; Zheng, L. J. Am. Chem. Soc. 2007, 129 (19), 6070. doi: 10.1021/ja070788m

    11. [11]

      Qin, Y.; Xie, W.; Liu, Y.; Ye, Z. Sens. Actuators B 2016, 223, 487. doi: 10.1016/j.snb.2015.09.113

    12. [12]

      Yang, X.; Salles, V.; Kaneti, Y. V.; Liu, M.; Maillard, M.; Journet, C.; Jiang, X.; Brioude, A. Sens. Actuators B 2015, 220, 1112. doi: 10.1016/j.snb.2015.05.121

    13. [13]

      Huang, Z. F.; Song, J.; Pan, L.; Zhang, X.; Wang, L.; Zou, J. J. Adv. Mater. 2015, 27 (36), 5309. doi: 10.1002/adma.201501217

    14. [14]

      Minh Vuong, N.; Kim, D.; Kim, H. Sci. Rep. 2015, 5 (1), 11040. doi: 10.1038/srep11040

    15. [15]

      宋春冬, 张静, 高莹, 卢圆圆, 王芳芳.物理化学学报, 2017, 33 (9), 1891. doi: 10.3866/PKU.WHXB201705111Song, C.; Zhang, J.; Gao, Y.; Lu, Y.; Wang, F. Acta Phys. -Chim. Sin. 2017, 33 (9), 1891. doi: 10.3866/PKU.WHXB201705111

    16. [16]

      Ngoc, T. M.; Van Duy, N.; Duc Hoa, N.; Manh Hung, C.; Nguyen, H.; Van Hieu, N. Sens. Actuators B 2019, 295, 144. doi: 10.1016/j.snb.2019.05.074

    17. [17]

      Ahmadi, M.; Sahoo, S.; Younesi, R.; Gaur, A. P. S.; Katiyar, R. S.; Guinel, M. J. F. J. Mater. Sci. 2014, 49 (17), 5899. doi: 10.1007/s10853-014-8304-2

    18. [18]

      Wang, H.; Ding, R.; Wang, C.; Ren, X.; Wang, L.; Lv, B. CrystEngComm 2017, 19 (28), 3979. doi: 10.1039/c7ce00774d

    19. [19]

      Gullapalli, S. K.; Vemuri, R. S.; Ramana, C. V. Appl. Phys. Lett. 2010, 96 (17), 171903. doi: 10.1063/1.3421540

    20. [20]

      Migas, D. B.; Shaposhnikov, V. L.; Borisenko, V. E. J. Appl. Phys. 2010, 108 (9), 093714. doi: 10.1063/1.3505689

    21. [21]

      Kaiser, F.; Simon, P.; Burkhardt, U.; Kieback, B.; Grin, Y.; Veremchuk, I. Crystals 2017, 7 (9), 271. doi: 10.3390/cryst7090271

    22. [22]

      Viswanathan, K.; Brandt, K.; Salje, E. J. Solid State Chem. 1981, 36 (1), 45. doi: 10.1016/0022-4596(81)90190-0

    23. [23]

      Aguir, K.; Lemire, C.; Lollman, D. B. B. Sens. Actuators B 2002, 84, 1. doi: 10.1016/S0925-4005(02)00003-5

    24. [24]

      Zhu, L. F.; She, J. C.; Luo, J. Y.; Deng, S. Z.; Chen, J.; Ji, X. W.; Xu, N. S. Sens. Actuators B 2011, 153 (2), 354. doi: 10.1016/j.snb.2010.10.047

    25. [25]

      Al Mohammad, A.; Gillet, M. Thin Solid Films 2002, 408 (1-2), 302. doi: 10.1016/s0040-6090(02)00090-1

    26. [26]

      Jiménez, I.; Arbiol, J.; Dezanneau, G.; Cornet, A.; Morante, J. R. Sens. Actuators B 2003, 93 (1-3), 475. doi: 10.1016/s0925-4005(03)00198-9

    27. [27]

      Tong, B.; Deng, Z.; Xu, B.; Meng, G.; Shao, J.; Liu, H.; Dai, T.; Shan, X.; Dong, W.; Wang, S.; et al. ACS Appl. Mater. Interfaces 2018, 10 (40), 34727. doi: 10.1021/acsami.8b10485

    28. [28]

      Tong, B.; Meng, G.; Deng, Z.; Horprathum, M.; Klamchuen, A.; Fang, X. Chem. Commun. 2019, 55 (78), 11691. doi: 10.1039/c9cc05881h

    29. [29]

      Hong, K.; Xie, M.; Hu, R.; Wu, H. Nanotechnology 2008, 19 (8), 085604. doi: 10.1088/0957-4484/19/8/085604

    30. [30]

      Li, N.; Zheng, Y.; Wei, L.; Teng, H.; Zhou, J. Green Chem. 2017, 19 (3), 682. doi: 10.1039/c6gc01327a

    31. [31]

      Lei, T.; Deng, Q.; Zhang, S.; Cai, S.; Xie, C. Sens. Actuators B 2016, 232, 506. doi: 10.1016/j.snb.2016.04.001

    32. [32]

      Liu, W.; Xu, L.; Sheng, K.; Chen, C.; Zhou, X.; Dong, B.; Bai, X.; Zhang, S.; Lu, G.; Song, H. J. Mater. Chem. A 2018, 6 (23), 10976. doi: 10.1039/c8ta02452a

    33. [33]

      Lu, C. H.; Hon, M. H.; Leu, I. C. J. Electron. Mater. 2016, 46 (4), 2080. doi: 10.1007/s11664-016-5132-y

    34. [34]

      Kunyapat, T.; Xu, F.; Neate, N.; Wang, N.; Sanctis, A.; Russo, S.; Zhang, S.; Xia, Y.; Zhu, Y. Nanoscale 2018, 10 (10), 4718. doi: 10.1039/c7nr08385h

    35. [35]

      Liu, I. P.; Chang, C. H.; Chou, T. C.; Lin, K. W. Sens. Actuators B 2019, 291, 148. doi: 10.1016/j.snb.2019.04.046

    36. [36]

      Lu, J.; Xu, C.; Cheng, L.; Jia, N.; Huang, J.; Li, C. Mater. Sci. Semicond. Process. 2019, 101, 214. doi: 10.1016/j.mssp.2019.05.038

    37. [37]

      Gao, L.; Wang, X.; Xie, Z.; Song, W.; Wang, L.; Wu, X.; Qu, F.; Chena, D.; Shen, G. J. Mater. Chem. A 2013, 1, 7167. doi: 10.1039/c3ta10831g

    38. [38]

      Sarkar, D.; Mukherjee, S.; Pal, S.; Sarma, D. D.; Shukla, A. J. Electrochem. Soc. 2018, 165 2108. doi: 10.1149/2.0451810jes

    39. [39]

      Xiao, Z.; Zhang, L.; Tian, X.; Fang, X. Nanotechnology 2005, 16 (11), 2647. doi: 10.1088/0957-4484/16/11/029

    40. [40]

      Shim, H. S.; Kim, J. W.; Sung, Y. E.; Kim, W. B. Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2009, 93 (12), 2062. doi: 10.1016/j.solmat.2009.02.008

    41. [41]

      Miao, B.; Zeng, W.; Hussain, S.; Mei, Q.; Xu, S.; Zhang, H.; Li, Y.; Li, T. Mater. Lett. 2015, 147, 12. doi: 10.1016/j.matlet.2015.02.020

    42. [42]

      Guo, C.; Yin, S.; Yan, M.; Kobayashi, M.; Kakihana, M.; Sato, T. Inorg. Chem. 2012, 51 (8), 4763. doi: 10.1021/ic300049j

    43. [43]

      Liu, J.; Margeat, O.; Dachraoui, W.; Liu, X.; Fahlman, M.; Ackermann, J. Adv. Funct. Mater. 2014, 24 (38), 6029. doi: 10.1002/adfm.201401261

    44. [44]

      Phuruangrat, A.; Yayapao, O.; Thongtem, T.; Thongtem, S. Russ. J. Phys. Chem. A 2017, 91 (12), 2441. doi: 10.1134/s0036024417120019

    45. [45]

      Gu, Z.; Zhai, T.; Gao, B.; Sheng, X.; Wang, Y.; Fu, H.; Ma, Y.; Yao, J. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 23829. doi: 10.1021/jp065170y

    46. [46]

      Song, X. C.; Zheng, Y. F.; Yang, E.; Wang, Y. Mater. Lett. 2007, 61 (18), 3904. doi: 10.1016/j.matlet.2006.12.055

    47. [47]

      Ha, J. H.; Muralidharan, P.; Kim, D. K. J. Alloys Compd. 2009, 475 (1-2), 446. doi: 10.1016/j.jallcom.2008.07.048

    48. [48]

      Gu, Z.; Li, H.; Zhai, T.; Yang, W.; Xia, Y.; Ma, Y.; Yao, J. J. Solid State Chem. 2007, 180 (1), 98. doi: 10.1016/j.jssc.2006.09.020

    49. [49]

      Moshofsky, B.; Mokari, T. Chem. Mater. 2012, 25 (8), 1384. doi: 10.1021/cm302015z

    50. [50]

      Hassan, M.; Wang, Z. H.; Huang, W. R.; Li, M. Q.; Liu, J. W.; Chen, J. F. Sensors 2017, 17 (10), doi: 10.3390/s17102245

    51. [51]

      Zhao, Y. M.; Hu, W. B.; Xia, Y. D.; Smith, E. F.; Zhu, Y. Q.; Dunnill, C. W.; Gregory, D. H. J. Mater. Chem. 2007, 17 (41), 4436. doi: 10.1039/b709486h

    52. [52]

      Qin, Y.; Hu, M.; Zhang, J. Sens. Actuators B 2010, 150 (1), 339. doi: 10.1016/j.snb.2010.06.063

    53. [53]

      Hong, K.; Xie, M.; Hu, R.; Wu, H. Appl. Phys. Lett. 2007, 90 (17), 173121. doi: 10.1063/1.2734175

    54. [54]

      Langmuir, I. Phys. Rev. 1913, 2 (5), 329. doi: 10.1103/PhysRev.2.329

    55. [55]

      Chapman, D. M. Appl. Catal. A 2011, 392 (1-2), 143. doi: 10.1016/j.apcata.2010.11.005

    56. [56]

      Ponzoni, A.; Comini, E.; Sberveglieri, G.; Zhou, J.; Deng, S. Z.; Xu, N. S.; Ding, Y.; Wang, Z. L. Appl. Phys. Lett. 2006, 88 (20), 203101. doi: 10.1063/1.2203932

    57. [57]

      Zhou, J.; Ding, Y.; Deng, S. Z.; Gong, L.; Xu, N. S.; Wang, Z. L. Adv. Mater. 2005, 17 (17), 2107. doi: 10.1002/adma.200500885

    58. [58]

      Van Hieu, N.; Van Vuong, H.; Van Duy, N.; Hoa, N. D. Sens. Actuators B 2012, 171-172, 760. doi: 10.1016/j.snb.2012.05.069

    59. [59]

      Chi, L.; Xu, N.; Deng, S.; Chen, J.; She, J. Nanotechnology 2006, 17 (22), 5590. doi: 10.1088/0957-4484/17/22/011

    60. [60]

      Mandl, B.; Stangl, J.; Hilner, E.; Zakharov, A. A.; Hillerich, K.; Dey, A. W.; Samuelson, L.; Bauer, G.; Deppert, K.; Mikkelsen, A. Nano Lett. 2010, 10 (11), 4443. doi: 10.1021/nl1022699

    61. [61]

      Liu, F.; Li, L.; Mo, F.; Chen, J.; Deng, S.; Xu, N. Cryst. Growth Des. 2010, 10 (12), 5193. doi: 10.1021/cg100995f

    62. [62]

      Hu, R.; Wu, H.; Hong, K. J. Cryst. Growth 2007, 306 (2), 395. doi: 10.1016/j.jcrysgro.2007.05.007

    63. [63]

      Hong, K.; Yiu, W.; Wu, H.; Gao, J.; Xie, M. Nanotechnology 2005, 16 (9), 1608. doi: 10.1088/0957-4484/16/9/034

    64. [64]

      Klinke, C.; Hannon, J. B.; Gignac, L.; Reuter, K.; Avouris, P. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 17787. doi: 10.1021/jp0533224

    65. [65]

      Smith, A. M.; Kast, M. G.; Nail, B. A.; Aloni, S.; Boettcher, S. W. J. Mater. Chem. A 2014, 2 (17), 6121. doi: 10.1039/c3ta14163b

    66. [66]

      Dellasega, D.; Pietralunga, S. M.; Pezzoli, A.; Russo, V.; Nasi, L.; Conti, C.; Vahid, M. J.; Tagliaferri, A.; Passoni, M. Nanotechnology 2015, 26 (36), 365601. doi: 10.1088/0957-4484/26/36/365601

    67. [67]

      Wu, W.; Yu, Q.; Lian, J.; Bao, J.; Liu, Z.; Pei, S. S. J. Cryst. Growth 2010, 312 (21), 3147. doi: 10.1016/j.jcrysgro.2010.07.057

    68. [68]

      Huang, R.; Zhu, J.; Yu, R. Chin. Phys. B 2009, 18, 3024. doi: 10.1088/1674-1056/18/7/068

    69. [69]

      Kojima, Y.; Kasuya, K.; Ooi, T.; Nagato, K.; Takayama, K.; Nakao, M. Jpn. J. Appl. Phys. 2007, 46, 6250. doi: 10.1143/JJAP.46.6250

    70. [70]

      Liu, F.; Mo, F. Y.; Jin, S. Y.; Li, L.; Chen, Z. S.; Sun, R.; Chen, J.; Deng, S. Z.; Xu, N. S. Nanoscale 2011, 3 (4), 1850. doi: 10.1039/c0nr01007c

    71. [71]

      Cao, B.; Chen, J.; Tang, X.; Zhou, W. J. Mater. Chem. A 2009, 19, 2323. doi: 10.1039/b816646c

    72. [72]

      Xu, F.; Tse, S. D.; Al-Sharab, J. F.; Kear, B. H. Appl. Phys. Lett. 2006, 88 (24), 243115. doi: 10.1063/1.2213181

    73. [73]

      Galléa, F.; Li, Z.; Zhang, Z. Appl. Phys. Lett. 2006, 89 (19), 193111. doi: 10.1063/1.2387883

    74. [74]

      Kojima, Y.; Kasuya, K.; Nagato, K.; Hamaguchi, T.; Nakao, M. J. Vac. Sci. Technol., B 2008, 26 (6), 1942. doi: 10.1116/1.2990783

    75. [75]

      Lin, Z.; Xie, P.; Zhan, R.; Chen, D.; She, J.; Deng, S.; Xu, N.; Chen, J. ACS Appl. Nano Mater. 2019, 2 (8), 5206. doi: 10.1021/acsanm.9b01074

    76. [76]

      Hernandez-Ramirez, F.; Tarancon, A.; Casals, O.; Pellicer, E.; Rodriguez, J.; Romano-Rodriguez, A.; Morante, J. R.; Barth, S.; Mathur, S. Phys. Rev. B 2007, 76 (8), doi: 10.1103/PhysRevB.76.085429

    77. [77]

      Van, P. T. H.; Dai, D. D.; Van Duy, N.; Hoa, N. D.; Van Hieu, N. Sens. Actuators B 2016, 227, 198. doi: 10.1016/j.snb.2015.12.054

    78. [78]

      Meng, G.; Zhuge, F.; Nagashima, K.; Nakao, A.; Kanai, M.; He, Y.; Boudot, M.; Takahashi, T.; Uchida, K.; Yanagida, T. ACS Sensors 2016, 1 (8), 997. doi: 10.1021/acssensors.6b00364

    79. [79]

      Nguyet, Q. T. M.; Van Duy, N.; Manh Hung, C.; Hoa, N. D.; Van Hieu, N. Appl. Phys. Lett. 2018, 112 (15), 153110. doi: 10.1063/1.5023851

    80. [80]

      Takahashi, T.; Nichols, P.; Takei, K.; Ford, A. C.; Jamshidi, A.; Wu, M. C.; Ning, C. Z.; Javey, A. Nanotechnology 2012, 23 (4), 045201. doi: 10.1088/0957-4484/23/4/045201

    81. [81]

      Zhuang, X.; Ning, C. Z.; Pan, A. Adv. Mater. 2012, 24 (1), 13. doi: 10.1002/adma.201103191

    82. [82]

      Xiong, X.; Jaberansari, L.; Hahm, M. G.; Busnaina, A.; Jung, Y. J. Small 2007, 3 (12), 2006. doi: 10.1002/smll.200700292

    83. [83]

      Wu, S.; Huang, K.; Shi, E.; Xu, W.; Fang, Y.; Yang, Y.; Cao, A. ACS Nano 2014, 8 (4), 3522. doi: 10.1021/nn406610d

    84. [84]

      Hu, H.; Wang, Z.; Ye, Q.; He, J.; Nie, X.; He, G.; Song, C.; Shang, W.; Wu, J.; Tao, P.; et al. ACS Appl. Mater. Interfaces 2016, 8 (31), 20483. doi: 10.1021/acsami.6b06334

    85. [85]

      Nguyen, H.; Quy, C. T.; Hoa, N. D.; Lam, N. T.; Duy, N. V.; Quang, V. V.; Hieu, N. V. Sens. Actuators B 2014, 193, 888. doi: 10.1016/j.snb.2013.11.043

    86. [86]

      Hung, C. M.; Le, D. T. T.; Van Hieu, N. J. Sci.: Adv. Mater. Devices 2017, 2 (3), 263. doi: 10.1016/j.jsamd.2017.07.009

    87. [87]

      Lee, K.; Baek, D. H.; Na, H.; Choi, J.; Kim, J. Sens. Actuators B 2018, 265, 522. doi: 10.1016/j.snb.2018.03.100

    88. [88]

      Xiong, Y.; Zhu, Z.; Guo, T.; Li, H.; Xue, Q. J. Hazard. Mater. 2018, 353, 290. doi: 10.1016/j.jhazmat.2018.04.020

    89. [89]

      Kruefu, V.; Wisitsoraat, A.; Tuantranont, A.; Phanichphant, S. Sens. Actuators B 2015, 215, 630. doi: 10.1016/j.snb.2015.03.037

    90. [90]

      Van Tong, P.; Hoa, N. D.; Van Duy, N.; Van Hieu, N. RSC Adv. 2015, 5 (32), 25204. doi: 10.1039/c5ra00916b

    91. [91]

      Zhao, X.; Ji, H.; Jia, Q.; Wang, M. J. Mater. Sci.: Mater. Electron. 2015, 26 (10), 8217. doi: 10.1007/s10854-015-3484-3

    92. [92]

      Park, J. Y.; Choi, S. W.; Kim, S. S. J. Phys. Chem. C 2011, 115 (26), 12774. doi: 10.1021/jp202113x

    93. [93]

      Lee, D. S.; Nam, K. H.; Lee, D. D. Thin Solid Films 2000, 375, 142. doi: 10.1016/S0040-6090(00)01261-X

    94. [94]

      Sun, H. T.; Cantalini, C.; Lozzi, L.; Passacantando, M.; Santucci, S.; Pelino, M. Thin Solid Films 1996, 287, 258. doi: 10.1016/S0040-6090(96)08745-7

    95. [95]

      Penza, M.; Tagliente, M. A.; Mirenghi, L.; Gerardi, C.; Martucci, C.; Cassano, G. Sens. Actuators B 1998, 50, 9. doi: 10.1016/S0925-4005(98)00149-X

    96. [96]

      Jaroenapibal, P.; Boonma, P.; Saksilaporn, N.; Horprathum, M.; Amornkitbamrung, V.; Triroj, N. Sens. Actuators B 2018, 255, 1831. doi: 10.1016/j.snb.2017.08.199

    97. [97]

      An, S.; Park, S.; Ko, H.; Lee, C. Ceram. Int. 2014, 40 (1), 1423. doi: 10.1016/j.ceramint.2013.07.025

    98. [98]

      Wu, Y. Q.; Hu, M.; Wei, X. Y. Chin. Phys. B 2014, 23 (4), 040704. doi: 10.1088/1674-1056/23/4/040704

    99. [99]

      Ngoc, T. M.; Van Duy, N.; Hung, C. M.; Hoa, N. D.; Nguyen, H.; Tonezzer, M.; Van Hieu, N. Anal. Chim. Acta 2019, 1069, 108. doi: 10.1016/j.aca.2019.04.020

    100. [100]

      Park, W. J.; Choi, K. J.; Kim, M. H.; Koo, B. H.; Lee, J. L.; Baik, J. M. ACS Appl. Mater. Interfaces 2013, 5 (15), 6802. doi: 10.1021/am401635e

    101. [101]

      Sysoev, V. V.; Schneider, T.; Goschnick, J.; Kiselev, I.; Habicht, W.; Hahn, H.; Strelcov, E.; Kolmakov, A. Sens. Actuators B 2009, 139 (2), 699. doi: 10.1016/j.snb.2009.03.065

    102. [102]

      Prades, J. D.; Jimenez-Diaz, R.; Hernandez-Ramirez, F.; Barth, S.; Cirera, A.; Romano-Rodriguez, A.; Mathur, S.; Morante, J. R. Appl. Phys. Lett. 2008, 93 (12), 123110. doi: 10.1063/1.2988265

    103. [103]

      Zhao, D.; Huang, H.; Chen, S.; Li, Z.; Li, S.; Wang, M.; Zhu, H.; Chen, X. Nano Lett. 2019, 19 (6), 3448. doi: 10.1021/acs.nanolett.8b04846

    104. [104]

      Tan, H. M.; Manh Hung, C.; Ngoc, T. M.; Nguyen, H.; Duc Hoa, N.; Van Duy, N.; Hieu, N. V. ACS Appl. Mater. Interfaces 2017, 9 (7), 6153. doi: 10.1021/acsami.6b14516

    105. [105]

      Liu, H.; He, Y.; Nagashima, K.; Meng, G.; Dai, T.; Tong, B.; Deng, Z.; Wang, S.; Zhu, N.; Yanagida, T.; et al. Sens. Actuators B 2019, 293, 342. doi: 10.1016/j.snb.2019.04.078

  • 加载中
计量
  • PDF下载量:  5
  • 文章访问数:  809
  • HTML全文浏览量:  190
文章相关
  • 发布日期:  2021-10-15
  • 收稿日期:  2019-11-19
  • 接受日期:  2019-12-27
  • 修回日期:  2019-12-26
  • 网络出版日期:  2020-01-17
通讯作者: 陈斌, bchen63@163.com
  • 1. 

    沈阳化工大学材料科学与工程学院 沈阳 110142

  1. 本站搜索
  2. 百度学术搜索
  3. 万方数据库搜索
  4. CNKI搜索

/

返回文章