长余辉发光是发光材料在停止高能辐射(典型辐射源如紫外光)后仍能持续可见发光的一种发光现象,其余辉发光时间从几秒到数小时不等[1]。 现阶段,对于稀土长余辉发光材料的研究主要集中在蓝绿色发光材料方面,代表性材料如绿色长余辉发光材料SrAl2O4:Eu2+,Dy3+和蓝色长余辉发光材料CaAl2O4:Eu2+,Nd3+,并已实现工业化生产和实际应用[2-3]。 虽然红色长余辉发光材料在安全标识、涂料和生物活体成像等领域中有着迫切的应用需求[4-6],但有关红色余辉材料的研究进展较为缓慢,可供选择的基质材料也比较少,常见的红色余辉材料如CaS:Eu2+和Y2O2S:Eu3+,Mg2+,Ti4+还存在余辉亮度不足和稳定性差等问题。
稀土离子(RE)掺杂氮(氧)化物荧光粉因其高的发光效率,优良的化学、热稳定性,高的发光猝灭温度及发射波长可调性,在白光LED中已有广泛的应用[7-8]。 通过引入适当的陷阱(如氧缺陷和三价稀土离子共掺)[9-10],氮(氧)化物荧光粉同样可以作为优异的长余辉发光材料,特别是橙-红色长余辉发光材料,如M2Si5N8:Eu2+和MSi2O2N2:Eu2+(M=Ca,Sr,Ba)[11-12]。 最近,我们率先在CaAlSiN3:Eu2+荧光粉中报道了红色长余辉发光现象,其中CaAlSiN3:0.05%Eu2+的红色余辉发光时间长达45 min[13]。 然而目前,关于三价稀土离子共掺对CaAlSiN3:Eu2+体系长余辉发光性能的影响及其机理,人们还不甚了解且无文献报道。 本文通过高温固相法制备了CaAlSiN3:Eu2+荧光粉,观察到了明显的红色长余辉发光现象;并选取长余辉材料中常用作调控长余辉发光性能的Tm3+离子作为共掺离子,通过改变Tm3+离子的掺杂量,研究其对CaAlSiN3:Eu2+余辉性能的影响并讨论了它的作用机理。
CaH2和AlN为市售分析纯,α-Si3N4(分析纯,UBE),Eu2O3(99.99%)和Tm2O3(99.99%)。 使用北京普析通用公司MSAL XD-2X型X射线多功能粉末衍射仪进行物相分析(Cu靶Kα射线λ=0.15418 nm;步宽0.02°;扫描速率4°/min;扫描范围2θ=10°~80°)。 使用Canon EOS 40D相机(日本佳能公司)拍摄样品余辉发光相片。 采用F-7000型荧光光谱仪(日本日立公司)测定样品的激发光谱、发射光谱、余辉发射光谱和余辉衰减曲线;测定余辉发射光谱和余辉衰减曲线前,样品预先经365 nm紫外光照射5 min。 采用北京核仪器厂FJ-427A1型微机热释光剂量计测定样品的热释光谱。
采用高温固相法制备CaAlSiN3:Eu2+,Tm3+荧光粉,其中Eu2+的掺杂摩尔分数恒定为0.1%,Tm3+的掺杂摩尔分数分别为:0%、0.1%、0.2%和0.4%(样品分别简写为CASN:0.1E、CASN:0.1E,0.1T、CASN:0.1E,0.2T和CASN:0.1E,0.4T)。 以CaH2、AlN、α-Si3N4、Eu2O3和Tm2O3为原料,将各原料按化学计量比称量。 在玛瑙研钵中将上述混合物研磨充分,然后转入氮化硼坩埚中,并把加盖的氮化硼坩埚置于高温反应炉中,通以高纯N2气,在1650 ℃下煅烧3 h,冷却后研磨,即得到CaAlSiN3: Eu2+,Tm3+荧光粉。
图 1为CaAlSiN3的晶体结构示意图。 如图 1所示,CaAlSiN3是由MN4(M=Al/Si)正四面体构建的三维网状结构组成。 其中,1/3的N原子(N2)与两个M原子结合,另外2/3的N原子(N1)与3个M原子结合;Al和Si原子随机分布在相同的正四面体格位中并与N原子结合形成顶点相连的M6N18刚性圆环。 所以,CaAlSiN3的结构可以看作是一种纤锌矿型双星AlN或GaN的超级结构变体[14-15]。 此外,在CaAlSiN3结构中,只有一种Ca的晶体格位,每个Ca原子与5个N原子相连接;Ca与其中两个N原子(N1)的键长为2.405(3) nm,与另外3个N原子(N2)的键长分别为2.490(5)、2.539(5)和2.586(5) nm[16]。
图 2为实验合成的CaAlSiN3:Eu2+,Tm3+荧光粉XRD图和CaAlSiN3标准卡片(ICSD no.161796)的对比图。 从图 2可以看出,所有样品的X射线衍射峰位置与标准卡片数据匹配良好,没有CaAlSiN3: Eu2+体系荧光粉合成中常见杂质AlN的出现,说明合成样品为正交晶系CaAlSiN3晶体,空间群为Cmc21[14]。 根据离子半径的大小:r(Eu2+)=0.117 nm,r(Ca2+)=0.100 nm,r(Tm3+)=0.088 nm,r(Al3+)=0.054 nm,r(Si4+)=0.040 nm[15],RE(Eu2+和Tm3+)会取代Ca2+进入其格位,因此少量稀土离子RE(Eu2+和Tm3+)的掺杂并未改变CaAlSiN3的晶体结构[17]。
图 3给出了不同波长激发和监测不同发光位置得到的CaAlSiN3:0.1%Eu2+和CaAlSiN3:0.1%Eu2+,0.2%Tm3+样品的激发(谱线a~d)和发射光谱(谱线e~h)。 对于CaAlSiN3:0.1%Eu2+单掺杂样品,在254和450 nm激发下均可观察到中心波长位于630 nm附近的宽带发光,分别对应于图 3谱线a和谱线b。 监控630 nm发现样品激发光谱具有200~550 nm的宽激发带,激发谱主要由3个带状峰构成,峰位依次为240、330和450 nm。 其中,240 nm激发峰源于电子在基质价带和导带间的跃迁,330 nm和450 nm激发峰则归因于Eu2+离子的4f 7→4f 65d1跃迁。根据晶体场理论,基质中N3-的存在,使得稀土离子Eu2+的d轨道发射分裂并重排,导致了样品能有效地被紫外-蓝绿光宽带激发。 基质CaAlSiN3中只有一种Ca格位,掺杂离子Eu2+进入Ca2+格位并作为发光中心[13, 18]。 仔细研究发现,随着共掺杂离子Tm3+的引入,CaAlSiN3:0.1%Eu2+,0.2%Tm3+样品的发射光谱除了630 nm的宽带发射外,在254 nm派发下可观察到位于654和800 nm的两个线状峰(图 3谱线c),分别归属于Tm3+离子的1G4→3F4和3H4→3H6跃迁[19],在450 nm激发下,仍然可观察到明显的3H4→3H6跃迁发光。
监测CaAlSiN3:0.1%Eu2+,0.2%Tm3+样品位于630和800 nm的两个发射峰,分别得到对应于图 3谱线g和谱线h所示的激发光谱。其中,监测630 nm发光得到的激发光谱与CaAlSiN3:0.1%Eu2+单掺样品相比(图 3谱线g和谱线e相比),除了254 nm的宽带峰强度减弱之外光谱形状无明显区别,进一步证明了630 nm左右的发光来源于Eu2+离子的4f 7→4f 65d1跃迁,而800 nm的发光来源于Tm3+离子的3H4→3H6跃迁发光。 监测800 nm发光得到的激发光谱与CaAlSiN3:0.1%Eu2+单掺样品相比(图 3谱线h和谱线f相比),位于254 nm附近的宽带峰强度明显增强且有所红移,且发光信号很弱。
为了进一步探究Tm3+对其荧光性能的影响,固定Eu2+的掺杂量为0.1%,改变Tm3+的掺杂量,如图 4所示,随着Tm3+掺杂量的变化,发射光谱的峰位没有明显变化,但可看到来源于Tm3+离子的800 nm发光强度逐渐增强,同时,随Tm3+离子浓度的增加,来源于Eu2+的630 nm发光逐渐减弱。
我们之前的研究结果表明,在低掺杂浓度下CaAlSiN3:0.1%Eu2+单掺样品可观察到明显的长余辉现象[13]。 图 5A给出了样品CaAlSiN3:0.1%Eu2+实体和余辉发光照片以及余辉发射光谱。由图可知,样品在停止紫外光照射后,能够观察到明显的红色余辉发光。照射后不同时间(1~5 min)测定的余辉发射光谱也证实样品存在余辉发射,且发射峰峰位和峰型均与其荧光光谱一致,说明Eu2+同样是余辉发光的发光中心。如图 5B所示,Tm3+共掺杂的样品其余辉发光具有630和800 nm两个余辉峰,与荧光光谱相同。由于Tm3+的800 nm发光位于近红外区,肉眼无法分辨,随着Tm3+的掺入,在暗房内肉眼可辨CaAlSiN3:Eu2+,Tm3+的红色长余辉发光被猝灭,与图 4所示的荧光性能具有相同的变化趋势。
一般观点认为,余辉发光现象的产生是由于激发态电子被低能级陷阱俘获后,在热激励下(通常为室温)从陷阱返回到激发态,最后以辐射跃迁的方式得到长余辉发光[21]。 根据其他氮(氧)化物荧光粉有关长余辉发光的报道[20],具体到本文中CaAlSiN3:Eu2+,Tm3+体系,推测其陷阱来源:样品中含有的微量O取代N原子形成ON·正电子陷阱,高温合成过程中不可避免地会有Ca的损失并产生Ca空位VCan,稀土离子掺杂引入EuCa×等电子陷阱和Tm3+不等价取代Ca2+形成TmCa·陷阱[22-24]。 其中,第一种陷阱是作为电子陷阱俘获激发态电子,后3种陷阱则是作为空穴陷阱俘获紫外激发时产生的空穴。
图 6为样品CaAlSiN3:Eu2+,Tm3+的余辉衰减曲线,可以看出,CaAlSiN3:0.1%Eu2+表现出优异的红色余辉性能;但随着Tm3+的掺入和掺杂量的增加,荧光粉的余辉性能逐渐减弱。如图 6所示,样品的余辉衰减曲线符合二次衰减规律,可用公式表示为I(t)=I0+A1exp(-t/τ1)+A2exp(-t/τ2),式中,I为时间t时的发光强度,I0为背景发光强度,A1和A2为常数,τ1和τ2为拟合余辉时间[25]。 计算得到相应4个样品的余辉时间τ1分别为5.347、5.239、5.220和4.653 s,τ2分别为41.810、46.630、43.189和39.019 s。 由此可见,Tm3+的掺入和掺杂量的增加改变了各样品的余辉衰减行为。
晶体中缺陷所形成陷阱能级的深度和陷阱中所束缚载流子的数量决定着发光材料的余辉性能(包括余辉时间和亮度),而热释光谱是目前为止讨论陷阱能级分布的最有效手段之一[26]。 图 7A和7B为样品CaAlSiN3:Eu2+,Tm3+归一化后的热释光谱图,由图 7可以看出,样品CaAlSiN3:0.1%Eu2+的热释峰经高斯拟合可分为两个热释峰,分别位于89.0和186.4 ℃;而共掺入Tm3+样品的热释峰则呈对称峰型,峰位均位于171 ℃。 以上说明,Tm3+离子的掺入,使得低温区域(89.0 ℃)的热释峰消失,从而改变材料中陷阱能级的分布。 实际上,室温下高效长余辉发光材料的热释发光峰峰位是在27~147 ℃范围内[27];当热释峰峰位超过147 ℃时,常温热激励不足以将深陷阱中的电子重新激发至激发态,并且深陷阱还有可能再俘获从浅陷阱中释放出来的电子。 因此,共掺杂Tm3+离子的结果是陷阱集中分布于较高能级,使得电子无法从陷阱中脱陷,从而减弱了样品的余辉发光性能。 同时,Tm3+的引入及掺杂量的增加,引起了浓度淬灭现象,因为掺杂量的增加会减小陷阱间的相对距离,增加激发态电子在陷阱之间传递的可能性,使得激发态电子可能被缺陷俘获形成无辐射跃迁,从而导致发光强度的减弱(图 6)。 随着Tm3+离子掺杂浓度的增加,热释发光强度逐渐减弱,进一步证实了Tm3+引入所导致的浓度淬灭现象(图 7B)。
通过高温固相法合成了共掺不同Tm3+浓度的CaAlSiN3:Eu2+荧光粉,荧光光谱分析表明,系列样品能被紫外-蓝绿区域光有效激发,Tm3+的掺入会在一定程度较减弱荧光强度。 余辉性能测试表明,CaAlSiN3:0.1%Eu2+具有较为优良的红色长余辉发光性能;但随着Tm3+离子的掺入和掺杂量的增加,余辉强度会降低。 热释光谱分析结果解释了Tm3+是通过改变材料中陷阱能级的分布及深度来影响余辉性能。 虽然Tm3+对余辉性能起到了减弱效果,但对进一步研究其它三价稀土离子共掺对CaAlSiN3:Eu2+体系余辉性能的影响具有启示意义。