酞菁钴-表面活性剂薄膜修饰电极及其催化性能

胡乃非 杨敬 刘婷 曾泳淮

引用本文: 胡乃非, 杨敬, 刘婷, 曾泳淮. 酞菁钴-表面活性剂薄膜修饰电极及其催化性能[J]. 应用化学, 1996, 13(4): 25-29. shu
Citation:  Hu Naifei, Yang Jing, Liu Ting, Zeng Yonghuai. Cobalt Phthalocyanine-Surfactant Film Modified Electrode and Its Catalytic Properties[J]. Chinese Journal of Applied Chemistry, 1996, 13(4): 25-29. shu

酞菁钴-表面活性剂薄膜修饰电极及其催化性能

  • 基金项目:

    国家自然科学基金 

摘要: 将酞菁钴(COPc)掺入阳离子表面活性剂双十二烷基二甲基溴化铵(DDAB)的氯仿溶液,并涂布于热解石墨电极表面,待氯仿挥发后即制得CoPc-DDAB薄膜电极.循环伏安实验表明,在KBr溶液中,该薄膜电极有一对良好且稳定的还原氧化峰,Epc=-0.45V,Epa=-0.24V(vs.SCE).探讨了该体系的电化学行为,估计了该体系的电化学参数.可将该薄膜电极用于催化卤代乙酸的电化学还原.

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  • 收稿日期:  1995-10-16
  • 网络出版日期:  1996-03-21
通讯作者: 陈斌, bchen63@163.com
  • 1. 

    沈阳化工大学材料科学与工程学院 沈阳 110142

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