Fe-Ni-S软磁薄膜的电沉积

王森林 宋运建

引用本文: 王森林, 宋运建. Fe-Ni-S软磁薄膜的电沉积[J]. 应用化学, 2011, 28(1): 60-65. doi: 10.3724/SP.J.1095.2011.00150 shu
Citation:  WANG Senlin, SONG Yunjian. Electrodeposition of Fe-Ni-S Soft Magnetic Film[J]. Chinese Journal of Applied Chemistry, 2011, 28(1): 60-65. doi: 10.3724/SP.J.1095.2011.00150 shu

Fe-Ni-S软磁薄膜的电沉积

    通讯作者: 王森林,教授;Tel:0595-22693746;E-mail:slwang@hqu.edu.cn;研究方向:金属表面处理、金属功能材料和电化学
摘要: 酸性镀液中以硼酸为缓冲剂、柠檬酸三钠为配合剂,在紫铜箔上电沉积得到非晶Fe-Ni-S合金薄膜。采用扫描电子显微镜和能谱分析技术(EDS)研究了镀液组成和沉积条件对镀层表面形貌和组成的影响。结果表明,在镀液中加入2g/L C7H5O3NS(糖精)和0.4g/L 1,4-丁炔二醇可获得表面平整无裂缝和较小内应力的合金镀层;电流密度和镀液pH值对镀层组成影响较小,但施镀温度对镀层组成影响较大。获得了理想的镀液组成和沉积条件,所得Fe73Ni9.5S17.5薄膜的X射线衍射表明其为非晶结构,在室温下具有较高的饱和磁化强度(Ms约为876.25kA/m)和较低的矫顽力(Hc约为4.96kA/m),具有良好的软磁性能。循环伏安曲线和阴极极化曲线均表明,镀液中CS(NH2)2会促进Fe-Ni-S共沉积。

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  • 收稿日期:  2010-03-15
  • 网络出版日期:  2010-07-21
通讯作者: 陈斌, bchen63@163.com
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    沈阳化工大学材料科学与工程学院 沈阳 110142

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