MoO3/γ-Al2O3, MoO3/TiO2和MoO3/SiO2的还原性质及表面状态研究

桂琳琳 钟边笑 唐有祺

引用本文: 桂琳琳, 钟边笑, 唐有祺. MoO3/γ-Al2O3, MoO3/TiO2和MoO3/SiO2的还原性质及表面状态研究[J]. 物理化学学报, 1985, 1(05): 412-419. doi: 10.3866/PKU.WHXB19850503 shu
Citation:  Gui Linlin, Zhong Bianxiao, Tang Youqi. STUDY ON THE REDUCIBILITY AND SURFACE STATE OF MoO3 SUPPORTED ON THE SURFACE OF γ-AI2O3, TiO2 AND SiO2 BY XPS[J]. Acta Physico-Chimica Sinica, 1985, 1(05): 412-419. doi: 10.3866/PKU.WHXB19850503 shu

MoO3/γ-Al2O3, MoO3/TiO2和MoO3/SiO2的还原性质及表面状态研究

摘要: 本文以XPS为检测手段研究了浸渍法制备的MoO_3/γ-Al_2O_3、MoO_3/TiO_2和MoO_3/SiO_2三个系列样品的还原性质。用XPS测定还原后与还原前强度比的比值, 实验结果表明阈值后的样品还原后强度比急剧增大, 说明晶相MoO_3从内孔向颗粒外表面大幅度迁移。而单层MoO_3的性质却各不相同, TiO_2上的单层MoO_3还原后部分凝聚, SiO_2上单层则部分迁移, 而γ-Al_2O_3上的单层MoO_3既不迁移也不凝聚, 亦即单层MoO_3的稳定性是Mo(Al)>Mo(Ti)>Mo(Si)。这也是MoO_3与这三个载体表面作用力强弱的顺序。用计算机对Mo3d谱峰解叠, 结果表明, 几乎所有样品还原后都只含有四价和五价钼。Mo(Al)和Mo(Si)体系还原后Mo~Ⅳ的百分数随负载量的增大而增大。我们认为反映了两种载体表面区域的不均匀性。Mo(Ti)体系还原后Mo~Ⅳ百分数在阈值附近出现转折点, 阈值前各点还原性质相同, 说明在应用还原为探测手段时, TiO_2表面表现为均匀的。以Mo~(Ⅳ)百分数衡量时, 三个体系的还原性为Mo(Al)<Mo(Ti)<Mo(Si)。与MoO_3和这三种载体表面作用力强弱的顺序一致。

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  • 发布日期:  1985-10-15
  • 收稿日期:  1985-01-13
  • 网络出版日期:  1985-10-15
通讯作者: 陈斌, bchen63@163.com
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    沈阳化工大学材料科学与工程学院 沈阳 110142

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