(Sn,Sb)O2-x基纳米结构厚膜材料气敏特性及机理

惠春 徐爱兰

引用本文: 惠春, 徐爱兰. (Sn,Sb)O2-x基纳米结构厚膜材料气敏特性及机理[J]. 物理化学学报, 2001, 17(09): 832-835. doi: 10.3866/PKU.WHXB20010915 shu
Citation:  Hui Chun, Xu Ai-Lan. Properties and Mechanism of Nanostructure Thick Film Materials Based on ( Sn,Sb )O2-x[J]. Acta Physico-Chimica Sinica, 2001, 17(09): 832-835. doi: 10.3866/PKU.WHXB20010915 shu

(Sn,Sb)O2-x基纳米结构厚膜材料气敏特性及机理

摘要: 对采用水热合成技术所形成的纳米(Sn,Sb)O2x晶粒结构、厚膜材料的气敏特性及其机理进行了研究,并采用XRD、TEM手段对纳米尺度的(Sn、Sb)O2x晶粒的结构与表面效应及晶粒形态进行了表征.结果表明,当掺杂Sb5+的浓度(摩尔分数xSb5+)为(2.9~5.8)×10-6时,(Sn、Sb)O2x纳米晶粒表面的电子缺陷浓度增大,增强了对气体的吸附能力,从而提高了对可燃性气体的灵敏度.同时可使晶粒保持短柱状的形态特征,对其灵敏度有一定的控制作用.

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  • 发布日期:  2001-09-15
  • 收稿日期:  2001-01-04
  • 网络出版日期:  2001-09-15
通讯作者: 陈斌, bchen63@163.com
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    沈阳化工大学材料科学与工程学院 沈阳 110142

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