钾修饰的MoO3/SiO2催化剂的XRD和TPR表征

王琪 郝影娟 陈爱平 姚光华 杨意泉

引用本文: 王琪, 郝影娟, 陈爱平, 姚光华, 杨意泉. 钾修饰的MoO3/SiO2催化剂的XRD和TPR表征[J]. 应用化学, 2007, 24(5): 561-564. shu
Citation:  WANG Qi, HAO Ying-Juan, CHEN Ai-Ping, YAO Guang-Hua, YANG Yi-Quan. XRD and TPR Studies on MoO3/SiO2 Catalysts Doped with Potassium[J]. Chinese Journal of Applied Chemistry, 2007, 24(5): 561-564. shu

钾修饰的MoO3/SiO2催化剂的XRD和TPR表征

    通讯作者: 杨意泉,男,研究员;E-mail:yyiquan@xmu.edu.cn;研究方向:多相催化
  • 基金项目:

    厦门市创新基金计划项目(350Z20031082) (350Z20031082)

摘要: 采用XRD和TPR测试技术表征了一系列不同K与Mo摩尔比的MoO3/K2O/SiO2催化剂。XRD表征结果显示,随着元素K的加入,多钼物种逐渐被破坏,最终形成了单钼的K2MoO4物种。TPR表征显示,催化剂表面的钼物种有2种结构,即八面体的Mo(Oh)和四面体的Mo(Td)。八面体Mo(Oh)的还原峰在770 K附近,而四面体Mo(Td)还原峰在1 000 K附近;无K的MoO3/SiO2催化剂的低温还原峰出现在840 K,少量元素K的添加削弱了Mo与SiO2之间的作用,使得低温还原峰温度降低到770 K附近;随着元素K添加量的进一步增加,Mo(Oh)物种逐渐减少而Mo(Td)物种逐渐增多,从而使得催化剂表面的Mo更难被还原。高硫合成气制甲硫醇的活性随着钼基催化剂八面体(Oh)钼物种的增加而增加。

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  • 收稿日期:  2006-07-09
  • 网络出版日期:  2006-10-05
通讯作者: 陈斌, bchen63@163.com
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    沈阳化工大学材料科学与工程学院 沈阳 110142

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